Une nouvelle technique révolutionnaire pour la gravure de la mémoire flash Nand
Des chercheurs américains ont récemment mis au point une technique innovante pour améliorer la gravure de la mémoire flash Nand en modifiant le gaz utilisé dans le plasma. Cette avancée permet une gravure plus rapide et plus précise, ouvrant la voie à des SSD et cartes mémoire avec une capacité accrue à un coût plus abordable.
Une évolution constante de la mémoire flash Nand
La mémoire flash Nand a connu une évolution significative ces dernières années, offrant des capacités de stockage de plus en plus élevées à des prix compétitifs. Cette technologie est largement utilisée dans les SSD, qui ont largement remplacé les disques durs mécaniques dans de nombreux ordinateurs. Elle est également présente dans les cartes mémoire, les clés USB et les smartphones.
Les fabricants ont développé la technologie 3D Nand, une version empilée pouvant comporter plus de 200 couches, voire bientôt 400. Cependant, la complexité de la fabrication de ces dispositifs pose des défis. Pour surmonter ces obstacles, des chercheurs de l’université du Colorado à Boulder et du laboratoire de physique des plasmas de Princeton ont mis au point une méthode de fabrication plus efficace et fiable.
Une gravure deux fois plus rapide
En utilisant une technique de gravure cryogénique avec du fluorure d’hydrogène au lieu de l’hydrogène et du fluor traditionnel, les chercheurs ont réussi à doubler la vitesse de gravure des différentes couches de la mémoire flash Nand. Cette innovation a permis de passer de 310 à 640 nanomètres par minute, tout en améliorant la qualité de la gravure, ce qui pourrait augmenter la densité des données stockées. Cependant, la réaction du fluorure d’hydrogène avec la couche de nitrure de silicium peut ralentir le processus de gravure, un problème facilement contourné en introduisant de l’eau dans le processus. De plus, l’utilisation de trifluorure de phosphore a quadruplé la vitesse de gravure des couches de dioxyde de silicium.
Malgré ses avantages, l’adoption généralisée de cette nouvelle technique est entravée par la toxicité et la corrosivité du fluorure d’hydrogène, qui pourrait endommager les équipements de gravure. Néanmoins, cette avancée ouvre la voie à la création de supports de stockage avec une plus grande capacité de stockage à des coûts plus abordables.
